Оператор по наращиванию эпитаксиальных слоев

Производство электрооборудования

Профессия рабочих

Тарифно-квалификационные характеристики профессии «Оператор по наращиванию эпитаксиальных слоев» требуются для определения видов работ, тарифной ставки и присвоения разрядов согласно статьи 143 Трудового кодекса Российской Федерации.

На основе указанных характеристик выполняемых работ и предъявляемых требований к профессиональным знаниям и навыкам составляется должностная инструкция оператор по наращиванию эпитаксиальных слоев, а также кадровые документы, в том числе для проведения собеседования и тестирования при приеме на работу.

При составлении рабочих (должностных) инструкций необходимо учитывать общие положения и рекомендации по выпуску ЕТКС 20, если информации недостаточно, обратитесь к поиску профессии через каталог профессий и специальностей по алфавиту.

§ 21. Оператор по наращиванию эпитаксиальных слоев 3-го разряда

Характеристика работ. Ведение процесса наращивания эпитаксиальных, поликристаллических, диэлектрических, металлических слоев с определенными параметрами на установках эпитаксиального наращивания. Подготовка оборудования к работе, проверка оборудования на герметичность, загрузка и разгрузка подложек. Контроль и корректировка режима процесса наращивания. Проверка качества применяемых подложек, материалов. Ведение процесса газового травления. Замер температуры оптическим пирометром. Заправка испарителей SiCl4. Снятие и установка кварцевой оснастки на оборудовании различных типов. Проведение профилактики газовой системы. Замена баллонов.

Должен знать: устройство важнейших частей, принцип действия установок эпитаксиального наращивания и контрольно-измерительных приборов; свойства химикатов, применяемых для наращивания эпитаксиальных, поликристаллических, диэлектрических и металлических слоев; реакции, происходящие на поверхности подложки в процессе наращивания; влияние примесей на качество эпитаксиальных, поликристаллических, диэлектрических и металлических слоев; способы градуирования ротаметров; методы измерения и регулирования температуры процесса наращивания испарителей, охлаждения реактора; правила работы с баллонами, магистральными газами и газовыми смесями.

Примеры работ

Эпитаксиальные, поликристаллические, диэлектрические, металлические слои - наращивание однослойных структур.

§ 22. Оператор по наращиванию эпитаксиальных слоев 4-го разряда

Характеристика работ. Ведение процесса наращивания эпитаксиальных, поликристаллических, диэлектрических и металлических слоев всех типов. Корректировка процесса наращивания по результатам контрольного процесса. Расчет скорости наращивания эпитаксиальных, поликристаллических, диэлектрических и металлических слоев. Расчет концентрации легирующей примеси. Карбидизация графитовых нагревателей (пьедесталов). Приготовление растворов SiCl4 с определенной концентрацией легирующей примеси. Определение неисправностей в установках.

Должен знать: устройство и способы подналадки оборудования различных типов; методы наращивания эпитаксиальных, поликристаллических, диэлектрических, металлических слоев и их свойства; свойства полупроводниковых материалов; свойства газов; методы измерения основных электрофизических и структурных параметров эпитаксиальных, поликристаллических, диэлектрических и металлических структур; устройство, назначение и условия применения приборов для контроля процесса, системы газораспределения и водяного охлаждения; влияние концентрации легирующей примеси на параметры эпитаксиальных структур, поликристаллических, диэлектрических и металлических слоев; основы электротехники в пределах выполняемой работы.

Примеры работ

Эпитаксиальные, поликристаллические, диэлектрические и металлические слои - наращивание структур со скрытыми слоями.

§ 23. Оператор по наращиванию эпитаксиальных слоев 5-го разряда

Характеристика работ. Ведение процессов наращивания многослойных эпитаксиальных структур, диэлектрических слоев. Наращивание сверхтонких поликристаллических, диэлектрических, металлических слоев. Устранение разброса параметров слоев различными методами. Замена стаканов и настройка индукторов по температурному режиму на установках, использующих ВЧ-нагрев. Настройка температурного режима процесса на установках, использующих инфракрасные и другие виды нагрева. Задание режимов на электронной системе управления технологическим процессом.

Должен знать: электрическую и газовую схему обслуживаемого оборудования, способы ее проверки, основные неисправности и методы их устранения; режимы и правила проведения процессов для получения сложных и многослойных эпитаксиальных структур, поликристаллических, диэлектрических, металлических слоев; правила настройки и регулировки приборов для контроля процесса, основы теории процесса эпитаксиального наращивания; правила работы с электронной системой управления технологическим процессом.

Требуется среднее профессиональное образование.

Примеры работ

1. Структуры многослойные эпитаксиальные - наращивание с заданными параметрами.

2. Структура многослойная диэлектрик-полупроводник - наращивание.

3. Слои тонкие эпитаксиальные - наращивание.

§ 24. Оператор по наращиванию эпитаксиальных слоев 6-го разряда

Характеристика работ. Самостоятельное ведение процессов получения эпитаксиальных, диэлектрических, поликристаллических и металлических слоев любого назначения на оборудовании различных типов. Проведение процессов, стимулированных плазмой, и процессов с использованием газообразных, жидкостных и твердых источников. Проведение экспериментальных и опытных работ по наращиванию слоев. Самостоятельная корректировка режимов в процессе работы. Расчет концентрации легирующей примеси, расчет скорости потоков паров и газов, температурных режимов. Задание и корректировка режимов на электронной системе управления технологическим процессом.

Должен знать: конструкцию, способы и правила наладки различных типов оборудования; правила работы с электронной системой управления технологическим процессом; методы прецизионной обработки полупроводниковых материалов; методы расчета концентрации легирующей примеси; особенности процессов диффузии и наращивания эпитаксиальных, поликристаллических, диэлектрических и металлических слоев; конструкцию полупроводниковых приборов и твердых схем на основе эпитаксиальных структур; основы теории полупроводников; физические и химические основы технологических процессов наращивания.

Требуется среднее профессиональное образование.

Примеры работ

1. Многослойные эпитаксиальные структуры - наращивание с различными заданными параметрами.

2. Локальная эпитаксия - наращивание.